抗蚀用UV光固化材料

目前,抗蚀(包括耐电镀)用UVLED光固化材料分为光固化抗蚀油墨、抗蚀干膜以涤纶片基、光成像抗蚀油墨和电沉积光致抗蚀剂四种。

光固化抗蚀油墨以碱溶性感光性树脂、交联单体和光引发剂等主要成分,加上各种添加剂组成,由丝网漏印到覆铜板上,经UV曝光,交联固化形成抗蚀层,腐蚀后用稀 碱液去膜。

抗蚀干膜以涤纶片基为基材,上涂抗蚀膜,再以聚乙烯薄膜粘附在覆铜板上,隔涤纶片基UV曝光,光照部分发生光交联,不见光部分经稀碳酸钠溶液显影除去,获得抗蚀图形,腐蚀完后再用稀氢氧化钠碱液去膜。抗蚀膜由碱溶性马来酸酐或丙烯酸共聚物与交联单体、光引发剂和其它添加剂组成。

光成像抗蚀油墨是一种新型抗蚀剂,可用丝网满印或辊涂、喷涂、帘涂等方式把抗蚀油墨全部覆盖在覆铜板上。由于含有少量溶剂,涂后要预烘,再经UV接触曝光,稀碳酸钠溶液显影,获得抗蚀图形,腐蚀完后再用氢氧化钠溶液去膜。它是由碱溶性感光树脂和交联单体、光引发剂、其它添加剂组成。

电沉积光致抗蚀剂是一种用于制造高精度、细线条PCB的新材料,属水基感光性树脂,配制好后置于电解槽内,通电后,带电荷的感光性树脂在电场作用下到达用作电极的覆铜板铜箔表面,发生电沉积而形成一层薄薄的高分子抗蚀膜,经UV接触曝光,稀碳酸钠溶液显影后形成抗蚀图形,腐蚀完后再用氢氧化钠溶液去膜。

上述4种抗蚀剂,都必须具有耐蚀刻液或电镀液的性能。由于蚀刻完或电镀完后,抗蚀膜都要去掉,因此所用的感光性树脂都应是带酸基的碱溶性树脂。常见的有马来酸酐共聚物、丙烯酸共聚物、酸酐改性的感光性树脂等。交联单体大多为季戊四醇三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯等。光引发剂可以用安息醚、安息双甲醚、二苯甲酮和907等。